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【エピタキシャル装置、プラズマCVD装置で世界シェアトップクラスのグローバル半導体製造装置企業！プラズマCVD装置は日本が開発の中心！】
【近年注目されているハフニウムを利用したゲート絶縁膜（High-k）の開発分野では先駆的な存在！】
■半導体製造装置の機構設計/開発を行っていただきます。
(1) 装置部品、モジュールの機構図面作成、修正および管理（出図、サプライヤー対応を含む）
(2) 次世代製品の開発設計
(3) 他開発部署、およびベンダーとの連携、調整業務
(4) 海外現法との装置製造要件打合せ、連携、調整業務
設計する機構はリアクターチャンバー（反応炉）と呼ばれ、機構の内部で成膜加工を行います。チャンバー内での成膜加工は、温度、電圧、材料ガス流量、真空圧、材料等の多くのパラメーター調整により選択性が大きく変わります。このポジションでの機構開発には幅広い周辺知識の取得が必須で、かつ他の開発部署との連携作業が欠かせません。月１～２度の頻度で長岡工場へ短期出張があります。
■ASMグループにおける日本法人の立ち位置：
・外資系企業ながら開発拠点が日本にあり、CVD装置は研究開発から製造・部品調達、カスタマイズまで全て日本で行っています。製品毎に主要開発拠点があり、日本はCVD装置の開発拠点という位置づけになります。また、近年話題のハフニウム使用のゲート絶縁膜分野では先駆的な存在となります。
コンサルタント
畠山 紗衣